法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-07-02
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03B17/12 授权公告日:20110105 终止日期:20130511 申请日:20100511
专利权的终止
2011-01-05
授权
授权
机译: X射线反射镜锥度,制造方法,窄带X射线滤镜(包括相同),装置(包括此类滤镜),通过单光谱滤镜产生的多光谱X射线以及通过多光谱滤镜产生的多光谱X射线
机译: 补偿图像传感器的滤镜偏移的装置具有滤镜阵列具有不同的滤镜滤镜特性
机译: 滤镜,制造该滤镜的方法以及配备有该滤镜的照相装置