首页> 中国专利> 金属氧化物场效应二极管及MOS二极管

金属氧化物场效应二极管及MOS二极管

摘要

金属氧化物场效应二极管及MOS二极管。涉及一种二极管元胞以及由多个元胞集成的二极管芯片。以硅片为基材,它包括栅、源、漏、源N+区、漏N+区、P+区、P阱区、正极片和负极片;源N+区的顶面为源极,漏N+区的底面为漏极,栅的顶面为栅极;硅片设有上、下两层,上层为高阻区,下层为漏N+区;源N+区、P+区和P阱区均设于高阻区的上部;正极片设于硅片顶面,负极片设于漏N+区的底面;栅极和源极相互短接;源N+区同栅、P+区、P阱区及正极片相连;P+区还同P阱区及正极片相连;P阱区还同栅及高阻区相连。本实用新型中通过MOS工艺集成的MOS二极管它包含至少二个所述一种金属氧化物场效应二极管,相互并联集成于所述硅片上。本实用新型的产品速度快,频率高。

著录项

  • 公开/公告号CN201611660U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2010-10-20

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 扬州扬杰电子科技有限公司;

    申请/专利号CN201020022576.5

  • 发明设计人 王毅;施立秋;沈克强;蒋李望;

    申请日2010-01-15

  • 分类号H01L29/861(20060101);H01L27/08(20060101);

  • 代理机构11278 北京连和连知识产权代理有限公司;

  • 代理人奚衡宝

  • 地址 225008 江苏省扬州市平山堂北路江阳工业园创业园三期扬杰电子科技

  • 入库时间 2022-08-21 23:13:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-03-15

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L29/861 授权公告日:20101020 终止日期:20160115 申请日:20100115

    专利权的终止

  • 2011-07-06

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01L29/861 变更前: 变更后: 申请日:20100115

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2010-10-20

    授权

    授权

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号