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等离子体约束装置及利用该等离子体约束装置的等离子体处理装置

摘要

一种用于等离子体处理装置的等离子体约束装置,其设置于所述等离子体处理装置的处理区域和排气区域之间。所述等离子体约束装置包括相互间隔设置并形成狭长通道的多个环。所述狭长通道具有变深宽比和变通道宽的结构。该等离子体约束装置不仅能将等离子体约束在处理区域内,减少因等离子体扩散而引起的处理腔室污染问题,而且可以大大增加处理腔室的排气效率,减少使用过的反应气体和副产品气体停留在处理腔窒内的时间。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-28

    专利权有效期届满 IPC(主分类):H01J37/32 授权公告日:20100623 申请日:20090430

    专利权的终止

  • 2019-04-12

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):H01J37/32 变更前: 变更后: 申请日:20090430

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2017-09-05

    专利权质押合同登记的注销 IPC(主分类):H01J37/32 授权公告日:20100623 登记号:2009310000663 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 解除日:20170809 申请日:20090430

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2011-09-21

    专利权质押合同登记的生效 IPC(主分类):H01J37/32 登记号:2009310000663 登记生效日:20110725 出质人:中微半导体设备(上海)有限公司 质权人:国家开发银行股份有限公司 实用新型名称:等离子体约束装置及利用该等离子体约束装置的等离子体处理装置 授权公告日:20100623 申请日:20090430

    专利权质押合同登记的生效、变更及注销

  • 2010-06-23

    授权

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