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公开/公告号CN201152867Y
专利类型
公开/公告日2008-11-19
原文格式PDF
申请/专利权人 中国科学技术大学;
申请/专利号CN200720130224.X
发明设计人 齐飞;潘洋;张泰昌;张允武;高辉;盛六四;
申请日2007-12-28
分类号
代理机构合肥金安专利事务所;
代理人金惠贞
地址 230029 安徽省合肥市合作化南路42号中国科学技术大学国家同步辐射实验室
入库时间 2022-08-21 23:00:46
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-03-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01N27/64 授权公告日:20081119 终止日期:20101228 申请日:20071228
专利权的终止
2008-11-19
授权
机译: 用于质谱分析的装置,相同方法的制备,使用相同方法的激光解吸电离质谱仪
机译: 电喷雾辅助激光解吸电离装置,质谱仪和质谱分析方法
机译: 质谱仪的样品解吸电离装置及分析方法
机译:红外激光解吸真空-紫外单光子电离质谱法在颗粒物过滤器样品中有机化合物的分析中的应用
机译:石油饱和物的红外激光解吸/真空紫外光电离质谱:重油分析的新实验方法
机译:激光解吸真空紫外单光子后电离质谱法原位检测组织中的亚甲蓝
机译:Mobilethermal解吸 - 单光子电离 - 捕获质谱仪(TD-SPI-ITMS)的探测和现场试验进行追踪安全相关物质的痕量检测
机译:激光质谱:I.单个颗粒的激光解吸。二。单光子和多光子电离的分子大小依赖性。
机译:用于基质辅助激光解吸/电离傅立叶变换离子回旋共振质谱成像的真空兼容样品定位装置
机译:使用激光产生的真空紫外光子进行单光子电离质谱法
机译:激光诱导解吸飞行时间质谱仪分析吸附污染物对真空紫外光刻光学材料的影响