一种用于反应直流磁控溅射的锌钼金属镶嵌靶

摘要

本实用新型属于反应直流磁控溅射技术领域，具体为一种用于反应直流磁控溅射的锌钼金属镶嵌靶。在靶以直径为60mm，厚度为2－3mm锌金属圆靶为基础，在其磁溅射区内均匀对称的分布有6－24个直径为0.8－2.0mm小孔，小孔内镶嵌有直径为0.8－2.0mm的钼丝。钼/锌的原子比为0.5at％－12.5at％。使用本实用新型的溅射靶制备得到的多晶掺钼氧化锌薄膜具有低电阻和可见光范围高光学透明性的特性，而且工艺稳定性好，易于工业化生产。