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一种可整体植入真空室的离子束源装置

摘要

一种可整体植入真空室的离子束源装置,其主法兰前侧的放电室后端法兰、放电室筒体、阳极筒、灯丝、离子引出组件及连接件均置于金属外罩中,装在主法兰上的陶瓷电极的后端置于金属后罩中,陶瓷电极与真空引出法兰的连接线用金属软管套住,有效防止了离子束源工作时线间、线地间的打火现象,既满足了大型工件的离子束微细加工的要求,也使设备整体尺寸缩小。

著录项

  • 公开/公告号CN201134408Y

    专利类型

  • 公开/公告日2008-10-15

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200720065470.1

  • 发明设计人 陈特超;

    申请日2007-12-17

  • 分类号

  • 代理机构长沙正奇专利事务所有限责任公司;

  • 代理人马强

  • 地址 410111 湖南省长沙市天心区新开铺1025号

  • 入库时间 2022-08-21 23:00:18

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-01-23

    专利权有效期届满 IPC(主分类):H01J27/02 授权公告日:20081015 申请日:20071217

    专利权的终止

  • 2008-10-15

    授权

    授权

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