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日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置

摘要

日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置,包括窑炉和烧咀,且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的,在窑炉的侧面的燃气入口处内面,烧咀的出口处扩散烧咀火焰,保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道。燃烧室的底面正对窑车台面,烧咀中心正对下火道的中下部,可充分利用烧咀喷出火焰的动能,对窑内燃烧产物进行搅拌,强化传热。燃烧室是直径为350mm~560mm的半圆拱,长度200mm~350mm;燃烧室的大小取决于所选取的燃烧室空间热强度。燃气通过烧咀喷入烧咀砖进入燃烧室燃烧后,燃烧产物再进入窑内通道。为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道,在燃烧室出口设置分流装置。

著录项

  • 公开/公告号CN201066238Y

    专利类型

  • 公开/公告日2008-05-28

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 湖南华联瓷业有限公司;

    申请/专利号CN200720063533.X

  • 发明设计人 聂岳军;

    申请日2007-06-14

  • 分类号F27B9/36(20060101);F23D14/84(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 412200 湖南省醴陵市西山办事处碧山村桎木嘴

  • 入库时间 2022-08-21 22:58:31

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-07-25

    专利权有效期届满 IPC(主分类):F27B9/36 授权公告日:20080528 申请日:20070614

    专利权的终止

  • 2008-10-22

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 变更前: 变更后: 申请日:20070614

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2008-05-28

    授权

    授权

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