用于多频率RF脉冲的频率增强阻抗依赖的功率控制

摘要

一种用于在使用多个RF功率供应器的等离子体处理室中处理衬底的方法。所述方法包括在第一脉冲频率对第一RF功率供应器施以脉冲以在高功率状态和低功率状态之间传递第一RF信号。所述方法进一步包括响应于可测量室参数的值在第一预定义RF频率和第二RF频率之间转换由第二RF功率供应器输出的第二RF信号的RF频率。第一RF频率和第二RF频率以及用于转换的阈值在学习阶段预先习得，同时第一RF信号在低于第一RF频率的第二RF频率在高功率状态和低功率状态之间脉冲且同时第二RF功率供应器以不同的模式运行。