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弧矢聚焦双晶单色器

摘要

本实用新型公开了一种弧矢聚焦双晶单色器,包括一个用于反射光线的第一晶体和一个再次反射光线第二晶体,还包括一个设在该第二晶体背面的用于压弯该第二晶体的压弯机构。本实用新型在对X射线进行单色化的同时还能在水平方向上对光束进行聚焦,从而得到高强度的单色X光束,并且能够承受高热负载。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-07-11

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G02B26/00 授权公告日:20060531 终止日期:20110513 申请日:20050513

    专利权的终止

  • 2006-05-31

    授权

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