公开/公告号CN2784959Y
专利类型
公开/公告日2006-05-31
原文格式PDF
申请/专利权人 河南中光学集团有限公司;
申请/专利号CN200520029971.5
发明设计人 阎学纯;
申请日2005-02-02
分类号
代理机构郑州联科专利事务所;
代理人陈浩
地址 473000 河南省南阳市中州路254号河南中光学集团有限公司
入库时间 2022-08-21 22:50:55
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-03-04
专利权有效期届满 IPC(主分类):G02B17/08 授权公告日:20060531 期满终止日期:20150202 申请日:20050202
专利权的终止
2006-05-31
授权
授权
机译: 折反射物镜,特别是用于微光刻的物镜,其偏转镜的镜面布置在共同的基体上,可以调节其在物镜中的位置
机译: 用于微光刻的最大孔径折反射折减物镜
机译: 具有不同曝光角度分布的投射光产生曝光单元和用于物镜中的成像掩模版的折反射投影物镜的微光刻投影设备