法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-02-25
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2004-07-21
授权
授权
机译: 具有线状尺寸为50nm以下的图案材料层的集成电路装置,光学装置,微机械和机械精密装置的制造方法
机译: 具有线状尺寸为50nm以下的图案材料层的集成电路装置,光学装置,微机械和机械精密装置的制造方法
机译: 具有线状尺寸为50nm以下的图案材料层的集成电路装置,光学装置,微机械和机械精密装置的制造方法