法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2018-05-04
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23G1/24 授权公告日:20160406 终止日期:20170418 申请日:20140418
专利权的终止
2016-04-06
授权
授权
2014-07-30
实质审查的生效 IPC(主分类):C23G1/24 申请日:20140418
实质审查的生效
2014-07-02
公开
公开
机译: 用于热喷涂的掩膜设备,用于该设备的用于去除热喷涂膜的设备以及用于去除热喷涂膜的方法
机译: 水分离液和从喷涂摊位上去除喷涂过量喷涂的方法。
机译: 用于去除III-V族元素的氧化物的去除液和方法,用于处理III-V族元素的化合物的处理液,用于防止III-V族元素的氧化的氧化防止液,用于处理导体基质的处理液以及制备方法半导体基板产品