法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-03-10
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01M4/583 授权公告日:20160330 终止日期:20190301 申请日:20120301
专利权的终止
2016-03-30
授权
授权
2013-10-16
实质审查的生效 IPC(主分类):H01M4/583 申请日:20120301
实质审查的生效
2013-09-11
公开
公开
机译: 石墨与噻唑盐的插层化合物,其制备方法以及由石墨与噻唑盐的插层化合物组成的导电材料
机译: 石墨与噻唑盐的插层化合物,其制备方法以及包含石墨与噻唑盐的插层化合物的导电材料
机译: 具有在相邻的石墨层之间插入一种或多种金属化合物的石墨插层化合物的制备方法