法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-02-10
授权
授权
2013-02-13
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F7/00 申请日:20101213
实质审查的生效
2012-12-26
公开
公开
机译: 用于制造相同化合物的组合物和方法,用于形成的光学组分的组合物,用于光刻的膜形成组合物,抗蚀剂组合物,用于形成抗蚀剂图案的方法,用于制造辐射图案的组合物,用于制造膜的胶片,用于制造薄膜的方法,用于胶片的方法形成下层膜,用于光刻的下层膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,电路图案形成方法和精制方法
机译: 膜形成组合物,抗蚀剂组合物,辐射敏感组合物,非晶膜的制造方法,抗蚀剂图案形成方法,光刻术中形成下层膜的组分,光刻法形成下层膜的方法和方法
机译: 包含碱反应性组分的组合物和光刻方法