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集成电路的内建电感及利用深沟渠阻断寄生电流的结构

摘要

一种在集成电路内利用内建电感元件阻断寄生电流的元件结构,将侧面形成如栅状结构的相互平行的深沟渠电容元件。利用此深沟渠储存电荷,可以阻断基底产生的寄生损失电流。集成电路内有主动元件区,配置复数个主动元件,以场氧化层做隔离。电感在沟渠的正上方,沟渠以干蚀刻形成,深度为0.5微米至10微米之间。

著录项

  • 公开/公告号CN1190847C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2005-02-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海宏力半导体制造有限公司;

    申请/专利号CN02130504.8

  • 发明设计人 高荣正;林大野;

    申请日2002-08-15

  • 分类号H01L27/04;H01L21/82;

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人汤保平

  • 地址 200000 上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号

  • 入库时间 2022-08-23 08:57:22

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-10-14

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

    专利权的终止(未缴年费专利权终止)

  • 2005-02-23

    授权

    授权

  • 2003-05-14

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2003-02-19

    公开

    公开

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