将至少一种介质涂布到至少一种基底上的设备和可重复地确定所述设备的至少一个第一滚筒的旋转角位置的方法

摘要

本发明涉及一种用于将介质涂布到基体上的设备，其中，所述设备具有能够旋转的至少一个滚筒和框架，所述至少一个滚筒被设置为能够围绕转轴相对于所述框架旋转且所述设备具有旋转角检测装置，所述旋转角检测装置至少部分地设置和／或能够设置在相对于所述至少一个滚筒的基准旋转角位置中且同时设置和／或能够设置在相对于所述框架的基准位置中，所述旋转角检测装置被设置成与至少一个基准标记配合或能够与至少一个基准标记配合且被实施为能够无接触地检测所述至少一个第一滚筒的旋转角位置，所述旋转角检测装置具有至少一个发射器，所述至少一个发射器被设置成，关于至少一个发射方向对准平行于转轴延伸的、所述至少一个滚筒的辊身的外表面，本发明还涉及一种可重复地确定至少一个滚筒的旋转角位置的方法。