立式机床的可变静压追踪系统和包括所述追踪系统的立式机床

摘要

一种立式机床的可变静压追踪系统，所述可变静压追踪系统包括：安装在环形基座(1)的外周(1b)和中央开口(1a)之间的多个扇区(4)，各个所述扇区(4)包括具有液压流体出口(4b)的上壳体(4a)，使得当注入的液压流体从所述壳体(4a)溢出时在回转卡盘(3)和所述扇区(4)之间形成膜；定位机构，所述定位机构包括固定于所述环形基座(1)上的、在所述中央开口(1a)和所述扇区(4)之间呈径向方向的多个液压缸(5)，各个所述液压缸(5)的棒与活塞(5j)和一个所述扇区(4)相连；各个扇区(4)都被引导至径向导向元件中，使得在所述液压缸(5)的作用下，所述扇区(4)在内径向位置和外径向位置之间可移动。