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优化融合的模拟空间光学-电磁屏蔽环境复合暗室

摘要

优化融合的模拟空间光学-电磁屏蔽环境复合暗室,暗室为六面方形框架结构,四侧墙内侧和顶棚下方采用龙骨-背架方式遍布挂接安装消光吸波尖劈(5),即六面方形框架内侧安装由主龙骨(9)和副龙骨(2)构成的网格背架(6),继而在网格背架(6)上不透光密布挂接吸波基座(4),吸波基座(4)上安装消光吸波尖劈(5);消光吸波尖劈(5)的所有可见表面有消光涂层(12)。可同时用于测量微波/红外双模产品的各项特性参数,空间光学环境模拟与空间电磁屏蔽环境模拟达到100%融合;工作区消光率由90%提高到了95%以上,电磁屏蔽效能高,暗室电性能对2GHZ-18GHZ微波信号屏蔽效能为90dB。

著录项

  • 公开/公告号CN103866997B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-12-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海一航凯迈光机电设备有限公司;

    申请/专利号CN201410119661.6

  • 发明设计人 李康;刁海南;

    申请日2014-03-27

  • 分类号

  • 代理机构上海申新律师事务所;

  • 代理人刘懿

  • 地址 201700 上海市青浦区海盈路海盈新村3-4号楼H-003室

  • 入库时间 2022-08-23 09:33:04

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-12-30

    授权

    授权

  • 2014-07-16

    实质审查的生效 IPC(主分类):E04H1/12 申请日:20140327

    实质审查的生效

  • 2014-06-18

    公开

    公开

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