法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-07-21
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01P1/203 授权公告日:20151028 终止日期:20160530 申请日:20130530
专利权的终止
2015-10-28
授权
授权
2013-11-06
实质审查的生效 IPC(主分类):H01P1/203 申请日:20130530
实质审查的生效
2013-10-02
公开
公开
机译: 用于抛光基底涂层的最佳声阻抗材料,可抑制BAW谐振器和滤波器中的通带纹波
机译: 用于抛光基底涂层的最佳声阻抗材料,可抑制BAW谐振器和滤波器中的通带纹波
机译: 抛光基底涂层的最佳声阻抗材料,可抑制BAW谐振器和滤波器中的通带纹波