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一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置

摘要

本发明涉及一种波片加工过程中用于消除光学干涉效应的装置,其特征在于:它包括一光胶盘,所述光胶盘上光胶有一个以上待加工的波片,所述波片上设置有一平板玻璃,每一所述波片与所述平板玻璃接触处设置有一采用折射率匹配液制作的匹配层,所述平板玻璃上表面和光胶盘下表面分别设置有一层增透膜。本发明可以广泛应用于波片的加工检测过程中。

著录项

  • 公开/公告号CN102706285B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-09-30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 清华大学;

    申请/专利号CN201210180988.5

  • 发明设计人 张书练;陈文学;

    申请日2012-06-04

  • 分类号

  • 代理机构北京纪凯知识产权代理有限公司;

  • 代理人徐宁

  • 地址 100084 北京市海淀区清华园1号清华大学精仪系

  • 入库时间 2022-08-23 09:30:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2020-05-22

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G01B11/06 授权公告日:20150930 终止日期:20190604 申请日:20120604

    专利权的终止

  • 2015-09-30

    授权

    授权

  • 2012-11-28

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01B11/06 申请日:20120604

    实质审查的生效

  • 2012-10-03

    公开

    公开

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