法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-11-16
专利权的转移 IPC(主分类):G09F 3/02 登记生效日:20161028 变更前: 变更后: 申请日:20130227
专利申请权、专利权的转移
2015-09-02
授权
授权
2014-02-12
实质审查的生效 IPC(主分类):G09F 3/02 申请日:20130227
实质审查的生效
2014-01-08
公开
公开
机译: 半导体晶片双侧磨床的静压垫,具有这种静压垫的双侧磨床以及使用这种静压垫的双侧磨削方法
机译: 双侧导电膜,包含双侧导电膜卷和双侧导电膜的触摸面板以及制造双侧导电膜的方法
机译: 双侧抛光装置载体的制造方法,双侧抛光装置载体和双侧抛光方法