具有稳定压力背压室的涡卷流体位移装置

摘要

本发明公开了一种具有稳定压力背压室的涡卷流体位移装置，包括，一固定涡卷和一绕动涡卷置于主壳体内部，所述绕动涡卷内设有至少一气道，所述气道能够在所述绕动涡卷与所述固定涡卷做相对运动过程中，连通所述背压气室和所述密封气室，其中，所述绕动涡卷内还设有一单向阀，该单向阀所处的通道与所述气道贯通，所述单向阀的阀头指向所述气道，所述单向阀能够随与所述气道相连通的所述密封气室的压力的升高而打开。使用本发明涡卷流体位移装置，通过在绕动涡卷内的气道上设置一个单向阀，使得背压气室内的压力不随与其相通的密封气室的压力高低变化，保持了轴向偏力维持在合理的范围内。