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一种低压等离子喷涂技术制备Y2O3陶瓷涂层的方法

摘要

本发明涉及Y2O3陶瓷涂层制造技术领域,具体涉及一种低压等离子喷涂技术制备Y2O3陶瓷涂层的方法。所述制备黑色Y2O3陶瓷涂层的方法,包括如下步骤:步骤(1),选择纯度大于99.95%的Y2O3粉末;步骤(2),对待喷涂的基材表面进行预处理;步骤(3),在所述等离子喷涂开始时先将所述真空等离子喷涂设备的真空喷涂室抽真空至1-10Pa,再充入惰性气体Ar,此时使所述真空喷涂室内压力达1.3×103Pa;继续充入H2,使其压力达到103~104Pa后进行喷涂作业;制备出Y2O3涂层。本发明是在低压条件下制备Y2O3涂层,使用本发明制备的Y2O3涂层为黑色,具有优异的耐刻蚀、耐脏等性能,且成本较低。

著录项

  • 公开/公告号CN103132007B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-09-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学院微电子研究所;

    申请/专利号CN201110396373.1

  • 申请日2011-12-02

  • 分类号C23C4/12(20060101);C23C4/10(20060101);

  • 代理机构11302 北京华沛德权律师事务所;

  • 代理人刘丽君

  • 地址 100029 北京市朝阳区土城西路3号

  • 入库时间 2022-08-23 09:29:11

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2015-09-09

    授权

    授权

  • 2013-07-10

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 4/12 申请日:20111202

    实质审查的生效

  • 2013-06-05

    公开

    公开

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