法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-03-29
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C22F 3/02 授权公告日:20150826 终止日期:20160207 申请日:20130207
专利权的终止
2015-08-26
授权
授权
2013-07-10
实质审查的生效 IPC(主分类):C22F 3/02 申请日:20130207
实质审查的生效
2013-06-05
公开
公开
机译: 形成超细晶体层的方法,具有由超细晶体层形成过程形成的超细晶体层的机器部件,用于制造机械成分的过程,用于形成纳米晶体层的纳米晶体层,用于机器的纳米晶体层的形成过程形成过程和制造机器零件的过程
机译: 形成超细晶体层的方法,具有由超细晶体层形成过程形成的超细晶体层的机器部件,用于制造机械成分的过程,用于形成纳米晶体层的纳米晶体层,用于机器的纳米晶体层的形成过程形成过程和制造机器零件的过程
机译: 形成超细晶体层的方法,具有由超细晶体层形成过程形成的超细晶体层的机器部件,用于制造机械成分的过程,用于形成纳米晶体层的纳米晶体,通过机器来形成纳米晶体层的过程