条形磁铁、磁靶及磁控溅射设备

摘要

本发明涉及磁控溅射技术领域，尤其涉及一种条形磁铁、磁靶及磁控溅射设备，所述条形磁铁在中间区域设有凸起结构。本发明提供的条形磁铁、靶材及磁控溅射设备，通过条形磁铁设有的凸起结构，在采用磁控溅射方式沉积薄膜过程中，为磁控溅射区域提供磁感应强度强弱分布均匀的磁场，确保沉积的薄膜厚度均匀。