法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-06-17
授权
授权
2013-10-09
实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 4/04 申请日:20130604
实质审查的生效
2013-09-04
公开
公开
机译: 磨盘的表面采用等离子工艺将离子嵌入其表面,其中碳化硅作为研磨剂嵌入基于硅酸铝陶瓷的粘合剂中
机译: 用于牙修复体的高度连接的牙科结构,具有陶瓷层,该陶瓷层通过等离子喷涂工艺涂覆在金属帽的内表面和外表面上
机译: 等离子增强化学气相沉积工艺,用于生产非晶态半导体表面涂层