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一种脉冲激光沉积制备纳米银/二氧化硅复合结构涂层的方法

摘要

一种脉冲激光沉积制备纳米银/二氧化硅复合结构涂层的方法,它涉及一种复合结构抗菌涂层的制备方法。本发明是要解决现有制备纳米银/二氧化硅复合结构的方法存在化学原料种类多、反应过程引入杂质的问题。制备方法:一、制备银/二氧化硅复合靶材;二、清洗衬底;三、将靶材和衬底分别固定在可自转靶位和样品托上;四、抽真空后通入氧气;五、采用准分子激光器对靶材进行激光烧蚀在室温下沉积涂层;六、停止沉积。本发明方法制备纳米银/二氧化硅复合结构涂层,只需使用两种原料,在真空腔中制备避免了杂质引入,室温沉积保证了无机、有机等不同材质衬底的使用,在医疗、电子等领域潜在应用广泛;本发明用于制备纳米银/二氧化硅复合结构涂层。

著录项

  • 公开/公告号CN103540899B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2015-06-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工业大学;

    申请/专利号CN201310541663.X

  • 申请日2013-11-05

  • 分类号

  • 代理机构哈尔滨市松花江专利商标事务所;

  • 代理人牟永林

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号

  • 入库时间 2022-08-23 09:26:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2016-12-21

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/28 授权公告日:20150617 终止日期:20151105 申请日:20131105

    专利权的终止

  • 2015-06-17

    授权

    授权

  • 2014-03-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/28 申请日:20131105

    实质审查的生效

  • 2014-01-29

    公开

    公开

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