玻璃的二氧化硅膜织构化

摘要

一种薄膜硅太阳能电池被形成在涂敷有织构化层(32)的玻璃基底(11)上，该层包括混合有织构颗粒(34)的SiO₂膜(33)，织构颗粒的直径约为1-2μm，由此形成织构表面(39)。SiO₂膜比织构颗粒的平均直径薄，使得石英穿过甩涂玻璃突出出来。此时电介质层提供势垒层功能，然而，可以选择采用具有与织构化表面(39)共形的上表面(35)的独立的抗反射膜(38)。如图所示，然后在抗反射膜(38)的织构化表面(35)上面形成硅膜(15)。该硅膜的厚度最好是0.5-2μm(也就是，厚度类似于SiO₂层表面上提供的织构零件的尺寸)。尽管用这种方法制作的硅膜松散地与其下方的织构化表面共形，但该膜的相反表面至少在小尺度上基本上不平行，使得光通常以一定角度穿过硅膜到硅表面。更重要的是，光将时常以与表面(36)法线成较大角度，撞击硅膜的后表面(图中是上表面)，使得对于大量的入射光，会发生内部全反射。表面(36)也可以用反射材料(40)(比如后部接触)来涂敷，以协助内部反射到达这个表面的光。