检测光刻机对图形模糊成像控制能力的方法

摘要

本发明提供了一种检测光刻机对图形模糊成像控制能力的方法，包括：第一步骤：利用光刻机，通过测试掩模板在硅片上曝光，并进行显影；第二步骤：利用电子线宽测量设备检测硅片得到的曝光大小；第三步骤：将在硅片得到的曝光大小与预定掩模板尺寸相减；第四步骤：根据第三步骤得到的相减结果判断光刻机对图形模糊成像控制能力。本发明利用测试掩模板在硅片上曝光，显影后利用电子线宽测量设备检测，将在实际硅片得到的曝光大小与预定掩模板尺寸相减，进而能够测试光刻机对图形模糊成像控制能力的精度表现，由此，本发明所用的硅片无需提前制作测定图形，更为灵活便捷。