制备高宽深比结构的等离子蚀刻方法及堆叠式电容器的制备方法

摘要

本发明公开了一种制备高宽深比结构的等离子蚀刻方法及装置。该方法包括以下步骤：置放基板于等离子蚀刻装置内，其中该等离子蚀刻装置包括一上电极板及一下电极板；持续提供一上源射频电力及一直流电力至该上电极板；以及间断地提供一偏压射频电力至该下电极板。当该偏压射频电力被切换至关状态时，大量二次电子会通过主体等离子且到达该基板而与正离子中和。