法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2015-02-18
授权
授权
2011-08-31
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/304 申请日:20090804
实质审查的生效
2011-07-20
公开
公开
机译: 作为光致抗蚀剂残渣去除液成分,通过进行以下处理来除去在加工后产生的光致抗蚀剂残渣。
机译: 将管道浸入干式除去液槽中的烟道信号的主要压力下,特别是用于低温装置隔离容器上的烟道液位测量信号时
机译: 半导体干法处理后的残渣去除液及使用该方法的残渣去除方法无效干法蚀刻