法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-12-31
授权
授权
2013-04-24
实质审查的生效 IPC(主分类):B41F 31/12 申请日:20120912
实质审查的生效
2013-03-27
公开
公开
机译: 估计剩余膜厚度分布,用剩余膜厚度分布校正图案和绝缘膜去除掩模,以及制造具有校正的图案和绝缘膜去除掩模的半导体器件
机译: 估计剩余膜厚度分布,用剩余膜厚度分布校正图案和绝缘膜去除掩模,以及制造具有校正的图案和绝缘膜去除掩模的半导体器件
机译: 墨膜厚度分布的校正方法和装置