首页> 中国专利> 在烃加工中抑制污垢的方法中还原性糖的用途

在烃加工中抑制污垢的方法中还原性糖的用途

摘要

一种用于抑制污垢材料形成的方法,所述方法包括在用碱性洗液处理所述烃介质时,使含有醛化合物的烃介质与防污剂接触。所述防污剂包括还原性糖。

著录项

  • 公开/公告号CN102378807B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 通用电气公司;

    申请/专利号CN201080015744.0

  • 发明设计人 M·金;C·R·麦丹尼尔;

    申请日2010-02-24

  • 分类号C10G70/00(20060101);C10G75/00(20060101);C07C7/148(20060101);C10G9/00(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人李进;林森

  • 地址 美国纽约州

  • 入库时间 2022-08-23 09:22:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-18

    专利权的转移 IPC(主分类):C10G 70/00 登记生效日:20181228 变更前: 变更后: 申请日:20100224

    专利申请权、专利权的转移

  • 2014-12-10

    授权

    授权

  • 2014-12-10

    授权

    授权

  • 2012-04-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C10G70/00 申请日:20100224

    实质审查的生效

  • 2012-04-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):C10G 70/00 申请日:20100224

    实质审查的生效

  • 2012-03-14

    公开

    公开

  • 2012-03-14

    公开

    公开

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