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用于制造针对辐射的滤波材料的合成物、用于制造滤波材料的合成物的方法、用于对辐射滤波的材料以及包括该材料的光电子器件

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摘要

一种用于制造针对辐射的滤波材料的合成物，其包括：硅氧烷，以及分散在硅氧烷中的至少一种颜料，其中该合成物针对在400nm到700nm之间的波长的辐射具有小于20％的相对透射率，并且针对在850nm到1025nm之间的波长的辐射具有超过50％的相对透射率。

著录项

公开/公告号CN102483478B

专利类型发明专利
公开/公告日2014-09-24

原文格式PDF
申请/专利权人奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司;
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申请/专利号CN201080030806.5
发明设计人克劳斯·霍恩;迈克尔·舒曼;德克·佐森海默;
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申请日2010-06-30
分类号
代理机构北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙);
代理人许伟群
地址德国雷根斯堡
入库时间 2022-08-23 09:21:22

法律信息

法律状态公告日

法律状态信息

法律状态
2014-09-24

授权

授权
2012-07-11

实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 5/20 申请日:20100630

实质审查的生效
2012-05-30

公开

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