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显影器件框架单元、显影器件、处理盒以及显影器件框架单元的制造方法

摘要

本发明涉及一种显影器件框架单元,其用于支撑用于调节显影剂运载构件上显影剂的层厚度的调节构件,所述显影器件框架单元包括:显影器件框架,其具有密封形成部分;两个端部密封构件,各自设置在显影器件框架的一个纵向端部处,并且当安装显影剂运载构件时所述两个端部密封构件都可接触到显影剂运载构件的表面,以便防止显影剂沿着显影剂运载构件的轴向方向泄漏;刮刀密封构件1,其用于当安装调节构件时在调节构件和显影器件框架之间进行密封,以便防止显影剂泄漏,其中,刮刀密封构件是弹性体树脂材料,所述弹性体树脂材料借助金属模具被注射模制,并且所述弹性体树脂材料设置在密封形成部分中,所述两个端部密封构件设置在所述密封形成部分处,刮刀密封构件将两个端部密封构件彼此连接。

著录项

  • 公开/公告号CN102809910B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-10-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 佳能株式会社;

    申请/专利号CN201210272661.0

  • 申请日2009-01-27

  • 分类号G03G15/08(20060101);G03G21/18(20060101);

  • 代理机构11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;

  • 代理人朱德强

  • 地址 日本东京

  • 入库时间 2022-08-23 09:21:08

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-10-08

    授权

    授权

  • 2013-01-30

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03G 15/08 申请日:20090127

    实质审查的生效

  • 2012-12-05

    公开

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