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一种亚微米级碳化硅的生产方法

摘要

本发明涉及一种亚微米级碳化硅的生产方法,包括在碳化硅研磨介质存在的条件下,将粒度为100-1500目的碳化硅稀料浆研磨60~90小时,其特点是在碳化硅稀浆料中添加分散剂,并将碳化硅研磨介质按其粒径的大、中、小配比加入,本发明具有设备投资小,生产工艺简单,质量容易控制等优点,它只进行一次粉碎加工就能达到使85-99%的碳化硅粉体粒径小于1微米。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-09-25

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01B 31/36 授权公告日:20040204 终止日期:20120807 申请日:20010807

    专利权的终止

  • 2004-02-04

    授权

    授权

  • 2002-05-15

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2002-04-17

    公开

    公开

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