用于对波前像差具有定制的响应的图案设计的方法和系统

摘要

本发明公开了用于对波前像差具有定制的响应的图案设计的方法和系统。本发明涉及用于设计量测器图案的方法和系统，其对参数变化尤其灵敏，因此在对用于成像具有多个特征的目标设计的光刻过程的校准中对随机的和重复的测量误差是鲁棒性的。所述方法可以包括以优化的辅助特征位置识别最灵敏的线宽/节距组合，其导致了对光刻过程参数变化的最灵敏的CD(或其它的光刻响应参数)变化，诸如波前像差参数变化。所述方法还可以包括设计具有多于一个测试图案的量测器，使得量测器的组合的响应可以被定制以生成对波前相关的或其它的光刻过程参数的特定响应。对参数变化的灵敏度导致了对随机的测量误差和/或任何其它的测量误差的鲁棒性性能。