一种制作活动微结构的方法

摘要

本发明制作活动微结构的方法，特征是先在导电的衬底上涂覆光刻胶，根据活动微结构形状制作光刻掩模，光刻、显影，得到和掩模上图形相反的光刻胶图形；采用电镀法直接制作牺牲层；将残留的光刻胶去除干净，再涂覆一层光刻胶，采用光刻和微电铸在衬底和电镀出的牺牲层图形上制作微装置，使需要活动的部件位置正好落在牺牲层图形上；将牺牲层腐蚀去除，释放出具有活动结构的微装置；本方法工艺简单，制作容易，可与LIGA技术兼容。