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一种获取光刻机最佳参数的方法及装置

摘要

本发明公开了一种获取光刻机最佳参数的方法,设置所需分辨率,该方法包括:输入参数并计算断截数值孔径值;判断当前数值孔径值是否小于断截数值孔径值,如果小于,则计算当前数值孔径值对应的景深值、分辨率并保存,将数值孔径值增加数值孔径增加步长作为新的当前数值孔径值,再次计算;否则,选择分辨率小于所需分辨率,且景深值最大的一组景深值、分辨率及对应的数值孔径值输出。本发明还公开了相应装置,根据输入参数计算并选出最佳的一组景深值、分辨率及对应的数值孔径值输出。本发明提高光刻机调机效率,延长了硅片的使用寿命。

著录项

  • 公开/公告号CN101561634B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-07-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN200810104079.7

  • 发明设计人 骆国泉;林大野;刘鹏飞;

    申请日2008-04-15

  • 分类号

  • 代理机构北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王达佐

  • 地址 100871 北京市海淀区成府路298号中关村方正大厦513

  • 入库时间 2022-08-23 09:19:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-05-04

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20140723 终止日期:20170415 申请日:20080415

    专利权的终止

  • 2014-07-23

    授权

    授权

  • 2014-07-23

    授权

    授权

  • 2011-05-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20080415

    实质审查的生效

  • 2011-05-18

    实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20080415

    实质审查的生效

  • 2009-10-21

    公开

    公开

  • 2009-10-21

    公开

    公开

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