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制备具有形成亚毫米级格栅的亚毫米级开口的掩模的方法、以及亚毫米级格栅

摘要

在基底、尤其是具有玻璃功能的基底的表面部分上通过沉积和干燥掩模层来制造具有亚毫米开口的掩模的方法,其特征在于,-从稳定并分散在溶剂中的胶体颗粒的溶液沉积出掩模层;以及-对掩模层进行干燥,直至得到具有形成掩模的基本上直边间隙的二维网络,该网络在至少一个方向上具有无规则的间隙网眼。通过该方法得到的亚毫米级格栅。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2018-04-06

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C03C 17/00 授权公告日:20140702 终止日期:20170321 申请日:20080321

    专利权的终止

  • 2014-07-02

    授权

    授权

  • 2014-07-02

    授权

    授权

  • 2010-05-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 17/00 申请日:20080321

    实质审查的生效

  • 2010-05-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):C03C 17/00 申请日:20080321

    实质审查的生效

  • 2010-01-27

    公开

    公开

  • 2010-01-27

    公开

    公开

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