法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-12-08
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01B 7/00 授权公告日:20140625 终止日期:20161019 申请日:20111019
专利权的终止
2014-06-25
授权
授权
2014-06-25
授权
授权
2013-02-13
著录事项变更 IPC(主分类):H01B 7/00 变更前: 变更后: 申请日:20111019
著录事项变更
2013-02-13
著录事项变更 IPC(主分类):H01B 7/00 变更前: 变更后: 申请日:20111019
著录事项变更
2012-03-28
实质审查的生效 IPC(主分类):H01B 7/00 申请日:20111019
实质审查的生效
2012-03-28
实质审查的生效 IPC(主分类):H01B 7/00 申请日:20111019
实质审查的生效
2012-02-15
公开
公开
2012-02-15
公开
公开
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机译: 高导膜形成方法,半导体器件制造方法和半导体制造装置
机译: 导光片,使用该导光片的可动触点结构,可动触点结构的制造方法,以及使用该导光片和可动触点结构的开关
机译: 导光片,使用该导光片的可动触点结构,可动触点结构的制造方法,以及使用该导光片和可动触点结构的开关