法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2017-04-26
专利权有效期届满 IPC(主分类):H05B 33/04 授权公告日:20040324 申请日:19970331
专利权的终止
2004-03-24
授权
授权
1999-06-16
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
1999-06-09
公开
公开
机译: 黑色高温辐射光屏蔽膜及其制造方法,以及使用该膜的隔膜,叶片材料,光量调节模块和光屏蔽带
机译: 使用相同的,用于显示装置的光屏蔽膜及其制造方法的光敏组合物和光敏转移材料,黑色矩阵,带有光屏蔽膜的基质和显示装置
机译: 氧化硅膜的形成和使用相同场致晶体管的制造