公开/公告号CN102077142B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-04-30
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN200980125562.6
申请日2009-06-09
分类号
代理机构中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 09:18:47
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-08-03
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20140430 终止日期:20150609 申请日:20090609
专利权的终止
2014-04-30
授权
授权
2011-08-24
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20090609
实质审查的生效
2011-05-25
公开
公开
机译: 光刻设备去除未盖上的多层反射镜上的沉积物的方法,光刻设备和装置制造方法
机译: 去除光刻设备的无盖多层镜上的沉积物的方法,光刻设备和器件制造方法
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