含有可溶性金属过氧酸盐络合物的化学机械抛光组合物及其使用方法

摘要

本发明提供用于在过氧化氢的存在下对含钌基材进行抛光而在该抛光过程期间不形成有毒水平的四氧化钌的化学机械抛光(CMP)组合物。所述组合物包含：(a)包含水溶性金属过氧酸盐络合物、金属过氧酸盐络合物的能氧化的前体、或其组合的催化氧化剂；(b)颗粒研磨剂；和(c)含水载体。所述金属过氧酸盐络合物及其前体各自具有能在化学机械抛光期间被过氧化氢氧化以使所述金属过氧酸盐络合物再生的还原形式。本发明还提供用所述CMP组合物对含钌表面进行抛光的CMP方法。