法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-02-19
授权
授权
2012-03-21
实质审查的生效 IPC(主分类):H04B 10/08 申请日:20111102
实质审查的生效
2012-02-08
公开
公开
机译: 基于磁光测量元件的相位差保护方法和系统
机译: 获得有机硅光保护聚合物的方法,有机硅光聚合物,其基于化妆品或皮肤的组成,紫外吸收剂的光化学前体,单体和获得该方法(版本)的方法,保护方法化妆品和皮肤科成分(版本)
机译: 获得有机硅光保护聚合物的方法,有机硅光聚合物,其基于化妆品或皮肤的组成,紫外吸收剂的光化学前体,单体和获得该方法(版本)的方法,保护方法化妆品和皮肤科成分(版本)