公开/公告号CN102439488B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-01-29
原文格式PDF
申请/专利权人 仁荷大学校产学协力团;
申请/专利号CN200980159449.X
申请日2009-12-07
分类号G02B1/11(20060101);C23C14/22(20060101);G02B1/10(20060101);
代理机构11290 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司;
代理人梁兴龙;武玉琴
地址 韩国仁川广域市
入库时间 2022-08-23 09:17:37
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-01-29
授权
授权
2012-06-27
实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 1/11 申请日:20091207
实质审查的生效
2012-05-02
公开
公开
机译: 改进的倾斜入射角沉积装置,使用相同的制造非反射性光学薄膜的方法以及非反射性光学薄膜
机译: 具有非反射性防尘结构的光学元件成型模具,具有非反射性防尘结构的光学元件成型模具,具有非反射性防尘结构,光学器件,成像装置和透镜的光学元件模具
机译: 具有非反射性防尘结构的光学元件模具以及具有非反射性防尘结构的光学元件成型型的制造方法