公开/公告号CN102047751B
专利类型发明专利
公开/公告日2014-01-29
原文格式PDF
申请/专利权人 赫姆洛克半导体公司;
申请/专利号CN200980120357.0
申请日2009-04-13
分类号
代理机构中国国际贸易促进委员会专利商标事务所;
代理人王会卿
地址 美国密执安
入库时间 2022-08-23 09:17:36
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-01-29
授权
授权
2011-06-15
实质审查的生效 IPC(主分类):H05B 3/03 申请日:20090413
实质审查的生效
2011-05-04
公开
公开
机译: 用于沉积材料和其中使用的电极的制造设备
机译: 用于沉积材料的制造设备以及该设备中使用的电极
机译: 用于沉积材料的制造设备以及该设备中使用的电极