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氧化物烧结体、其制造方法以及氧化物烧结体制造用原料粉末

摘要

本发明提供一种氧化物烧结体,为包含铟(In)、镓(Ga)、锌(Zn)和氧(O),由式InxGayZnzOa[式中,x/(x+y)为0.2~0.8、z/(x+y+z)为0.1~0.5、a=(3/2)x+(3/2)y+z]表示的氧化物烧结体,其特征在于,该氧化物烧结体中含有的挥发性杂质的浓度为20ppm以下。本发明提供能够应用于制造以下IGZO靶的技术:可以实现该溅射用靶的高密度化及低体电阻化,可以防止靶在制造过程中的膨胀或破裂,并且可以将结瘤的产生抑制到最低限度,可以抑制异常放电,并且可以进行DC溅射。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2017-04-12

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更 IPC(主分类):C04B 35/00 变更前: 变更后: 申请日:20100528

    专利权人的姓名或者名称、地址的变更

  • 2014-02-05

    授权

    授权

  • 2012-06-27

    实质审查的生效 IPC(主分类):C04B 35/00 申请日:20100528

    实质审查的生效

  • 2012-05-16

    公开

    公开

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