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用于纠正布局中的辅助特征印刷错误的方法和设备

摘要

本发明公开了一种用于纠正布局中的辅助特征印刷错误的方法和设备。本发明的一个实施例提供一种调节布局中的辅助特征以防止印刷辅助特征的系统。在操作期间,系统接收布局。系统然后标识布局中的辅助特征(AF)印刷热点,其中AF印刷热点包括辅助特征集合和与辅助特征集合邻近的一个或者多个目标图案。预计在光刻工艺期间印刷辅助特征集合中的至少一个辅助特征。接着,系统通过以下操作来修改AF印刷热点:(1)修改辅助特征集合;并且(2)对一个或者多个目标图案进行光学邻近纠正(OPC)。系统然后对修改的AF印刷热点进行光刻仿真以确定:(1)与修改的AF印刷热点关联的贯穿工艺窗口是否可接受;并且(2)预计是否不印刷修改的辅助特征集合中的辅助特征。如果是这样,则系统用修改的AF印刷热点取代AF印刷热点。

著录项

  • 公开/公告号CN101794323B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2014-01-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 新思科技有限公司;

    申请/专利号CN200910174915.3

  • 申请日2009-10-29

  • 分类号

  • 代理机构北京市金杜律师事务所;

  • 代理人王茂华

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 09:17:23

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2014-01-08

    授权

    授权

  • 2012-01-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):G06F 17/50 申请日:20091029

    实质审查的生效

  • 2010-08-04

    公开

    公开

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