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具有优异的毛刺性能和可靠性的切割模片粘合膜以及应用该粘合膜的半导体器件

摘要

本发明涉及一种用于半导体封装工艺的切割模片粘合膜和应用该切割模片粘合膜的半导体器件。设置该切割模片粘合膜,从而使晶片和模片粘合部分的粘合层之间的粘合力X与模片粘合部分和切割部分的粘性层之间的粘性力Y的比值X/Y为0.15-1,并且模片粘合部分的粘合层在常温下的储能模量为100-1000Mpa。根据本发明的切割模片粘合膜在切割工艺中能减少毛刺的产生,由此制备的半导体器件具有优异的可靠性并且没有由于覆盖结合区的毛刺而因差的连接可靠性所导致的劣化。

著录项

  • 公开/公告号CN101848974B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2013-11-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LG化学株式会社;

    申请/专利号CN200880114602.2

  • 申请日2008-10-28

  • 分类号

  • 代理机构北京金信立方知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘晔

  • 地址 韩国首尔

  • 入库时间 2022-08-23 09:16:49

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-11-27

    授权

    授权

  • 2010-11-17

    实质审查的生效 IPC(主分类):C09J 163/00 申请日:20081028

    实质审查的生效

  • 2010-09-29

    公开

    公开

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